低压氧化退火设备（M5011-10/UM型）
关键词：
泛半导体高端工艺装备制造商、智能制造和整线集成解决方案提供商
低压氧化退火设备（M5011-10/UM型）
低压氧化退火设备（M5011-10/UM型）
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低压氧化/退火炉主要用于太阳能行业晶体硅的氧化、退火工艺以及大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业
的氧化、退火、合金及烧结等。
设备特点
· 硅片尺寸可兼容至230mm
· 采用柔性炉门支撑机构、可旋转式炉门设计方式，炉口密封圈更换及炉门维护无需设备降温，维护更加便捷，有效延长石英管、炉体
寿命
· 具备独创的快速冷却专利技术，高温氧化后可缩短工艺时间10 min以上
· 成熟的湿氧工艺，提升高温氧化速率，降低氧化温度，提升石英件寿命
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邮箱：service001@cetc.hnredsolar.com
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