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PRODUCTS & SOLUTIONS
产品&解决方案
M82200-10UM型PECVD 镀膜设备
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基本参数 |
成膜种类 |
氮化硅 |
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装片量与产能 |
416 片/批（156x156mm 方片），单台5管产能≥3600片/小时； |
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在线时间 |
≥98%； |
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设备功率 |
峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW； |
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设备尺寸 |
7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）； |
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成膜质量参数 |
成膜均匀性 |
片内≤4％、片间≤3％、批间≤3％（膜厚80～120nm）； |
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折射率均匀性 |
片内≤1.5％、片间≤1.5％、批间≤1.5％（折射率2～2.2）； |
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温控系统参数 |
恒温区长度及精度 |
≤±1℃/1600mm （450℃时）； |
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温度控制范围 |
200～580℃； |
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温度控制方式 |
五段双回路温度控制； |
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真空系统参数 |
压力控制 |
高精度VAT阀控制，控压范围220±40Pa； |
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石墨舟传输系统参数 |
石墨舟上料方式 |
全自动机械手上下舟，在线式/离线式对接插片机可选； |
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控制系统参数 |
推舟机构 |
水平速度1~12000mm/min可调，垂直速度1~150mm/min可调，承重≥40KG； |
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控制方式 |
高性能工控计算机全自动控制工艺过程，并对工艺参数和工艺流程实时监控； |
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基本参数 |
在线时间 |
≥98%； |
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设备功率 |
峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW； |
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设备尺寸 |
7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）； |