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PRODUCTS & SOLUTIONS
产品&解决方案
M82200-10UM型PECVD 镀膜设备
基本参数 |
成膜种类 |
氮化硅 |
装片量与产能 |
416 片/批(156x156mm 方片),单台5管产能≥3600片/小时; |
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在线时间 |
≥98%; |
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设备功率 |
峰值功率≤280KW,平均功率≤70KW; |
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设备尺寸 |
7400mm(不含真空泵)×2110mm×3530mm(L×W×H); |
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成膜质量参数 |
成膜均匀性 |
片内≤4%、片间≤3%、批间≤3%(膜厚80~120nm); |
折射率均匀性 |
片内≤1.5%、片间≤1.5%、批间≤1.5%(折射率2~2.2); |
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温控系统参数 |
恒温区长度及精度 |
≤±1℃/1600mm (450℃时); |
温度控制范围 |
200~580℃; |
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温度控制方式 |
五段双回路温度控制; |
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真空系统参数 |
压力控制 |
高精度VAT阀控制,控压范围220±40Pa; |
石墨舟传输系统参数 |
石墨舟上料方式 |
全自动机械手上下舟,在线式/离线式对接插片机可选; |
控制系统参数 |
推舟机构 |
水平速度1~12000mm/min可调,垂直速度1~150mm/min可调,承重≥40KG; |
控制方式 |
高性能工控计算机全自动控制工艺过程,并对工艺参数和工艺流程实时监控; |
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基本参数 |
在线时间 |
≥98%; |
设备功率 |
峰值功率≤280KW,平均功率≤70KW; |
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设备尺寸 |
7400mm(不含真空泵)×2110mm×3530mm(L×W×H); |