M82200-10UM型PECVD 镀膜设备

基本参数

成膜种类

氮化硅

装片量与产能

416 片/批（156x156mm 方片），单台5管产能≥3600片/小时；

在线时间

≥98%；

设备功率

峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW；

设备尺寸

7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）；

成膜质量参数

成膜均匀性

片内≤4％、片间≤3％、批间≤3％（膜厚80～120nm）；

折射率均匀性

片内≤1.5％、片间≤1.5％、批间≤1.5％（折射率2～2.2）；

温控系统参数

恒温区长度及精度

≤±1℃/1600mm （450℃时）；

温度控制范围

200～580℃；

温度控制方式

五段双回路温度控制；

真空系统参数

压力控制

高精度VAT阀控制，控压范围220±40Pa；

石墨舟传输系统参数

石墨舟上料方式

全自动机械手上下舟，在线式/离线式对接插片机可选；

控制系统参数

推舟机构

水平速度1~12000mm/min可调，垂直速度1~150mm/min可调，承重≥40KG；

控制方式

高性能工控计算机全自动控制工艺过程，并对工艺参数和工艺流程实时监控；

基本参数

在线时间

≥98%；

设备功率

峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW；

设备尺寸

7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）；