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M82200-10UM型PECVD 镀膜设备
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M82200-10UM型PECVD 镀膜设备

M82200-10/UM型PECVD镀膜设备采用直接式等离子体沉积方式,可生产出质量极佳的晶体硅太阳能电池减反射膜,是业内管径、单管产能最大的管式镀膜设备。
所属分类
没有此类产品
产品描述
设备概述:
M82200-10/UM型PECVD镀膜设备采用直接式等离子体沉积方式,可生产出质量极佳的晶体硅太阳能电池减反射膜,是业内管径、单管产能最大的管式镀膜设备。
 
产品的主要特点及优势:
单台(5管)产能≥3600片/小时(单管装片416片/批);
沉膜均匀性好,膜厚均匀性指标可达:片内≤3%、片间≤3%、批间≤3%;
350~580℃控温范围,同时满足沉积氮化硅膜和退火工艺要求;
采用全套倍福控制系统,自动化程度高( 提供MES接口、远程监控等功能);
全自动上下舟系统,一键全自动工艺和完善的保护报警功能;
送料机构强度、精度、速度、稳定性大幅优于同类产品。
 
主要技术参数
 

基本参数

成膜种类

氮化硅

装片量与产能

416 片/批(156x156mm 方片),单台5管产能≥3600/小时;

在线时间

98%

设备功率

峰值功率280KW,平均功率≤70KW

设备尺寸

7400mm(不含真空泵)×2110mm×3530mmL×W×H);

成膜质量参数

成膜均匀性

片内≤4%、片间≤3%、批间≤3%(膜厚80120nm);

折射率均匀性

片内≤1.5%、片间≤1.5%、批间≤1.5%(折射率22.2);

温控系统参数

恒温区长度及精度

≤±1/1600mm 450℃时);

温度控制范围

200~580℃;

温度控制方式

五段双回路温度控制;

真空系统参数

压力控制

高精度VAT阀控制,控压范围220±40Pa;

石墨舟传输系统参数

石墨舟上料方式

全自动机械手上下舟,在线式/离线式对接插片机可选;

控制系统参数

推舟机构

水平速度1~12000mm/min可调,垂直速度1~150mm/min可调,承重≥40KG

控制方式

高性能工控计算机全自动控制工艺过程,并对工艺参数和工艺流程实时监控;

基本参数

在线时间

98%

设备功率

峰值功率280KW,平均功率≤70KW

设备尺寸

7400mm(不含真空泵)×2110mm×3530mmL×W×H);

 
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