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M5111-6WKUM型氧化炉设备
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M5111-6WKUM型氧化炉设备

高温氧化炉是半导体器件加工中的典型热处理设备,用于集成电路、分立器件、太阳能光伏行业中进行氧化、退火、合金及烧结等工艺。
所属分类
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产品描述
设备概述:
高温氧化炉是半导体器件加工中的典型热处理设备,用于集成电路、分立器件、太阳能光伏行业中进行氧化、退火、合金及烧结等工艺。
 
产品的主要特点及优势:
高产能,单管产能可达1200片/批(156×156mm硅片);
温控系统性能出色,采用可预测型五段双回路智能温控系统以及新型炉体,控温精度和回温性能优异;
全套倍福系统及总线控制方式,可靠性和信息化化性能优异;
自动上下料系统,采用全自动上下料、在线式插取片对接系统,扩展了设备自动化程度,降低人工劳动强度,减少人工污染。
 
主要技术参数
 

产能

硅片尺寸

156×156mm方片

单管装片量

1200片/批(槽间距2.38mm

工艺类型

高温氧化、退火工艺

温度控制系统

控温方式

5段双回路串级控制

控温范围

600℃~1100℃

恒温区长度及精度

≤±0.5℃/1600mm(801℃~1100℃)

≤±1℃/1600mm(400℃~800℃)

单点稳定性

±0.5℃/24h(静态,900℃)

炉体升降温速率

最大升温20˚C/min;最大降温5˚C/min

气路系统

流量控制方式

氮气、氧气流量由MFC控制;保护氮气由浮子流量计控制

气体控制精度

±0.5%FS

送舟机构

水平推舟速率

1~400mm/min 连续可调,定位精度≤±1mm

垂直升降速率

812mm/min

石英舟进出方式

软着陆、在线式(净化台侧出舟)

SiC桨最大承载

25Kg

控制系统

工艺监控方式

工业平板电脑全自动控制(触摸屏操作)

自动控温功能

具有自动斜率升降温及恒温功能

工艺历史记录功能

核心工艺参数(温度、压力、流量、功率、电流、淀积时间)每3秒记录一次,其他过程每10秒记录一次。

报警保护功能

设备具有工艺状态声光提醒,以及计算机异常、超温报警与欠温、MFC偏差、反应室压力偏差、极限超温报警和保护功能;

其他参数

设备峰值功率

280 KVA(5管

保温功率

75 KVA(5管

设备柜体尺寸

7440mm(长)×2020mm(宽)×3530(高)

设备利用率

≥98%

 
 
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