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PRODUCTS & SOLUTIONS
产品&解决方案
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产能 |
硅片尺寸 |
156×156mm方片 |
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单管装片量 |
1200片/批（槽间距2.38mm） |
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工艺类型 |
高温氧化、退火工艺 |
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温度控制系统 |
控温方式 |
5段双回路串级控制 |
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控温范围 |
600℃～1100℃ |
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恒温区长度及精度 |
≤±0.5℃/1600mm（801℃～1100℃） ≤±1℃/1600mm（400℃～800℃） |
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单点稳定性 |
±0.5℃/24h(静态，900℃) |
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炉体升降温速率 |
最大升温20˚C/min；最大降温5˚C/min |
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气路系统 |
流量控制方式 |
氮气、氧气流量由MFC控制；保护氮气由浮子流量计控制 |
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气体控制精度 |
±0.5%FS |
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送舟机构 |
水平推舟速率 |
1～400mm/min 连续可调，定位精度≤±1mm |
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垂直升降速率 |
8～12mm/min |
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石英舟进出方式 |
软着陆、在线式（净化台侧出舟） |
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SiC桨最大承载 |
25Kg |
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控制系统 |
工艺监控方式 |
工业平板电脑全自动控制（触摸屏操作） |
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自动控温功能 |
具有自动斜率升降温及恒温功能 |
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工艺历史记录功能 |
核心工艺参数（温度、压力、流量、功率、电流、淀积时间）每3秒记录一次，其他过程每10秒记录一次。 |
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报警保护功能 |
设备具有工艺状态声光提醒，以及计算机异常、超温报警与欠温、MFC偏差、反应室压力偏差、极限超温报警和保护功能； |
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其他参数 |
设备峰值功率 |
280 KVA（5管） |
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保温功率 |
75 KVA（5管） |
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设备柜体尺寸 |
7440mm(长）×2020mm（宽）×3530（高） |
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设备利用率 |
≥98% |